高洁净芯片制造工艺，为何采用超纯水系统制备清洗水

时间：2026-10-15

　　芯片主要发展始于上世纪50年代末期，一款芯片的诞生无论是从原材料还是中间经过的上百道工序，都需要非常精心。如今我国技术的不断发展与进步，芯片的集成度和性能也在不断地提高，我国芯片市场需求也是暴涨，因此相关产业的发展也随之带动起来。

　　为了保证生产芯片的纯净度，清洗水也需要使用高纯度的超纯水。制备超纯水必须严格按照国家标准来生产，这是为了保证在芯片生产过程中，不会产生多余的杂质影响芯片品质。

　　该超纯水系统主要是自来水进入原水箱，通过原水泵增压，经砂滤器、炭滤器、阻垢剂加药、保安过滤器，到达反渗透单元，双级反渗透系统产水进入EDI单元后经抛光混床单元得到超纯水，这样的水质就可供芯片生产使用了。

　　该系统应用的是优质膜元件，既能够去除水中的导电介质，又能够将水中不溶解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度，生产的超纯水具有纯度高，无病毒和细菌，不含任何悬浮物、无化学污染等优点，并且系统还能实现全自动运行，无需专业看守也可正常产水，水质稳定有保障。还有一点是，芯片生产中使用的超纯水系统内部还安置了反渗透预脱盐技术，从根本上保障了超纯水出水水质，不会对环境造成污染，对于保护环境来说有着重要的意义。

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